卧式光催化氧化----凯斯特设备

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    2023-7-23

俞总
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宜兴市凯斯特机械有限公司提供卧式光催化氧化----凯斯特设备。

光电催化氧化技术的基本原理

  光电催化氧化技术——光电化学效应(1839年e.becquerel)1955年根据锗电极试验得出的结果---,becquerel效应是由于生成半导体-电解液结的关系,从而产生了利用照射置于电解槽中半导体电极生产化学品或电极的概念,1972年,利用n型半导体tio2将水在比h2o/o2对的标准氧化电位负的多的情况下生产o2获得成功之后,引起人们广泛关注。

  光电催化氧化技术的基本原理:

  光电催化氧化技术——光催化和电催化反应的特例,同时具有光、电催化反应的特点。是在光照条件下在具有不同类型(电子和离子)电导的两个导电体的界面上进行的一种催化过程。

  具有光催化的特点:光化学氧化法应用产生新的可移动的载流子(具有更高的氧化或还原能力),伴随着电流的流动。

  光电化学过程:光能、电能或化学能之间的转化根据光激发起始步骤的不同。

  分为两类:电极(催化剂)的光激发引起:半导体电极和金属电极半导体电极:近表面区形成一个空间电荷层,有可能参与电极/电解液界面的电化学反应。

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光氧催化废气净化器

一,技术原理

1,本产品利用t制的高能光束照射恶臭气体,裂解恶臭气体如:氨,三j胺,甲---,卧式光催化氧化---价格,甲---,---,二l化碳和,---物h2s,voc类,---,的分子链结构,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,降解转变成低分子化合物,如co2,h2o等。

2,利用高能高臭氧uv紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,进而产生臭氧。

uv+o2***o-+o*(活性氧)o+o2***o3(臭氧),众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用,对恶臭气体及其他---性异味有立g见影的清除效果。

3,恶臭气体利用排风设备输入到本净化设备后,净化设备运用高能c波光束及臭氧对恶臭气体进行协同分解氧化反应,使恶臭气体物质其降解转化成低分子化合物,水和---,再通过排风管道排出室外。

4,利用高能uv光束裂解恶臭气体中细j的分子键,破坏细j的---(dna)。在通过臭氧进行氧化反应,达到脱臭及杀灭细j的目的。

二,性能参数

1,处理风量:2000m?/h ---100000m?/h

2,有机废气净化效率:***95%

3,设备阻力≤300pa

4,电源电压:220 v 50hz

5,电功率:500w----6000w

6,设备噪声:≤45db

三,技术特点

一、---臭:能去除挥发性有机物(voc)、无机物、、氨气、---类等主要污染物,以及各种恶臭味,脱臭效率可达99.9%以上,脱臭效果---超过1993年颁布的恶臭污染物排放标准(gb14554-93).

二、无需添加任何物质:只需要设置相应的排风管道和排风动力,卧式光催化氧化---厂家,使恶臭气体通过本设备进行脱臭分解净化,无需添加任何物质参与化学反应。

三、适应性强:可适应高浓度,---量,不同恶臭气体物质的脱臭净化处理,卧式光催化氧化---安装,可每天24小时连续工作,运行。

四、运行成本低:本设备无任何机械动作,无噪音,无需专人管理和日常维护,只需作定期检查,本设备能耗低,只需电费,没有其他耗材。

五、无需预处理:恶臭气体无需进行特殊的预处理,如加温、加湿等,设备工作环境温度在摄氏-30℃-95℃之间,湿度在40%-98%之间均可正常工作。

六、设备占地面积小,自重轻:适合于布置紧凑、场地狭小等特殊条件,设备占地面积<1平方米/处理10000m3/h风量。

七、进口材料制造:防火、防腐蚀---,性能稳定,使用---。

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微弧氧化是通过对电解质溶液施加高电压电流,而生成陶瓷化表面膜。在过程中具有物理反应与化学反应,通过微弧氧化而生产的氧化膜其硬度和耐磨性---,而且耐腐蚀性和电绝缘性等物理化学性能也比阳极氧化膜有---。随着国内的经济改革微弧氧化技术已经慢慢普及为民用,虽然慢慢普及但人们对于微弧氧化技术还是一知半解。

早在70年代,---就发现这种技术,在电解质溶液升高电压,铝和钛等钝化性金属就是会出现阳极成膜现象,而随着电压的升高,成膜就会出现三种特征区:法拉第区、火花区、微弧区。在这三区中微弧区在电压的驱动下阳极表面产生大量发光的微弧,在阳极表面闪烁并作无规则移动,卧式光催化氧化---,这样微弧区可以得到氧化膜。

通过,的不断研究发现,在外加电压达到起弧电压之前,金属表面已经被阳极氧化膜所覆盖。这层介电性的氧化膜使得电流迅速下降,为了氧化膜的继续生长,只有增大电压使原氧化膜的薄弱位置发生击穿,导致局部火花以维持氧化膜生长所需要的电流。因为局部薄弱位置是不断变动的,为此造成火花位置不断变动,宏观上看到试样表面的火花(微弧)作无规则移动。因此可以预计,微弧氧化膜并不是在所有表面上同时生长的,而是在不断增加电压的过程中局部击穿与生长,导致q面增厚而后达到z定电压的---厚度。

同时,电解质溶液的金属离子会参与微弧氧化反应,所以成膜时可以通过改变电解质溶液的金属离子来改变氧化膜的颜色。

然而,微弧氧化成膜虽然所需的技术是通过高电压电流电解成膜,但是要出现结晶态高温相,是需要---的温度。因此微弧氧化时局部发生---温度,才能让微等离子体氧化,这也是微弧氧化的要点和难点。同样,微弧氧化不仅可以让铝合金氧化成膜,而且可以用在mg、ti、zr、ta和nb等钝化型金属,并且具有高硬度、极耐磨、强绝缘等特性。

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